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トップ > ファインケミカル・バイオ関連 受託製造企業 > イハラケミカル工業株式会社


イハラケミカル工業株式会社


1.会社プロフィール
本社所在地 〒110-0008 東京都台東区池之端1-4-26
資本金 2,700百万円
受託に関わる人員 180 名
資本系列
(資本構成比)
なし
  
売り上げ規模(平成26年度実績)
うち受託生産による売り上げ実績
29,593百万円
8,770百万円
開発部門人数 40 名


2.受注担当セクション
部署名 開発推進部
担当者 梅津一登,日吉英孝,伊藤充範
住所 〒110-0008 東京都台東区池之端1-4-26
TEL 03-3822-5258
FAX 03-3828-9887
E-mail support@iharachem.co.jp 
URL http://www.iharachem.co.jp
受託生産拠点
静岡工場   〒421-3306 静岡県富士市中之郷1800番地


3.受託可能分野
医薬中間体 製剤包装 樹脂
農薬中間体 天然物バイオ 電子材料
写真薬中間体 化粧品 製品開発
その他中間体 食品 分析
その他:


4.受託体制
これまでに受託実績を持つ
依頼があり, 設備に余力がある時に受注する
試験サンプル程度の量しか対応できない
大量生産に対応する
大量の受注があれば設備の増設を検討する


5.特長的な技術・得意とする技術

得意な技術
硫化カルボニル(COS)発生及び利用する反応
ハロゲン化 
塩素化 (光, 熱, 触媒使用核塩素化) 臭素化 
還元反応(NaBH4,鉄粉) アルキル化 カルボニル化 エステル化 
カップリング反応(貴金属触媒使用, 金属ソーダ使用, その他) エーテル化 
フリーデルクラフツ反応 ブチルリチウムを使用する反応 ニトロ化 
スルフォン化 アミノ化 グリニヤール反応 酸化反応 フィルスマイヤー反応  
クロルスルフォン化, ジアミン合成など


6.所有設備

6,000Lから20,000L GL, SUS, その他各種反応装置
温度設定範囲 -10℃より250℃
蒸留設備 (常圧より2mmHg減圧)
精密蒸留設備(常圧より2mmHg減圧)
晶析, 濾過, 乾燥設備 各生産ライン

【 工場設備概要 】

  C 反応缶








ナウター型乾燥機 

蒸留塔 

遠心分離機

GL
GL
GL
GL
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
テフロンライニング
2,000L×1
6,000L×3
8,000L×2
10,000L×1
13,000L×3
20,000L×1
30,000L×1
6,000L×1
13,000L×1
3,000L×1
4,000L×3
400A×4500H
600φ×4900H
48inch×3
48inch×1
使用温度
R.T~140℃

 

真空度~15torr

 

 


理論段数20
理論段数20

  D 反応缶











コニカル型乾燥機
蒸留塔


遠心分離機
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
テフロンコーティング
SS
SS
MA
MA
HC
GL
カーボン
SUS
SUS
SUS
3,000L×1
9,000L×1
13,000L×1
3,000L×2
4,000L×1
6,000L×6
3,000L×1
4,000L×1
6,000L×1
2,500L×1
10,000L×2
13,000L×1
3,000L×1
510φ×6647H
400A×2040H×3
400A×2720H×2
46inch×1
使用温度
R.T,~250℃(SUS)
R.T.~180℃
(GL)
真空度~10torr

 

 

 



理論段数12
理論段数10
理論段数15

  E 反応缶






ナウター型乾燥機 

蒸留塔



遠心分離機
GL
GL
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
SUS
CB
GL
GL
SUS
SUS
テフロンライニング
1,000L×1
6,000L×5
8,000L×1
13,000L×1
20,000L×1
4,000L×1
6,000L×1
1,900L×1
3,000L×1
510φ×6125H
250A×4700H
400φ×4200H
400φ×3350H
50inch×1
48inch×1
使用温度
0℃~250℃(SUS)
0℃~180℃
(GL)
真空度~5torr




理論段数10
理論段数9
理論段数13
理論段数8


【 少量生産・パイロット設備 】
試作工場  反応缶







晶析缶
蒸留缶
蒸留塔
遠心分離機


ヌッチェ
コニカル型乾燥機

ナウター型乾燥機
 
GL
GL
GL
GL
GL
GL
MA
SUS
GL
GL
GL
SUS
SUS
テフロンライニング
SUS
GL
GL
SUS
2,000L×2
1,000L×1
500L×2
200L×1
100L×1
50L×1
1,500L×1
300L×1
1,000L×1
500L×1
300φ×4620H
30inch×2
24inch×1
24inch×1
500φ×1
400L×1
70L×1
300L×1
使用温度
0℃~220℃
(MA)
0℃~180℃
(GL)
真空度~5torr




理論段数15

【 試作製造設備 】
50Lから2,000L GL, SUS反応槽
蒸留設備(常圧, 減圧)
晶析, 濾過, 乾燥設備


7.環境対策
ISO14000取得
廃液水中燃焼設備, 活性汚泥廃水処理設備


8.品質管理
ISO9001認証の品質管理システム