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イハラケミカル工業株式会社
1.会社プロフィール
| 本社所在地 |
〒110-0008 東京都台東区池之端1-4-26 |
| 資本金 |
2,700百万円 |
| 受託に関わる人員 |
180 名 |
資本系列
（資本構成比） |
なし
|
売り上げ規模(平成23年実績)
うち受託生産による売り上げ実績 |
18,900百万円
7,600百万円 |
| 開発部門人数 |
40 名 |
2.受注担当セクション
3.受託可能分野
| ○ |
医薬中間体 |
|
製剤包装 |
|
樹脂 |
| ○ |
農薬中間体 |
|
天然物バイオ |
○ |
電子材料 |
| ○ |
写真薬中間体 |
|
化粧品 |
|
製品開発 |
| ○ |
その他中間体 |
|
食品 |
|
分析 |
その他：
4.受託体制
| ○ |
これまでに受託実績を持つ |
|
依頼があり,設備に余力がある時に受注する |
|
試験サンプル程度の量しか対応できない |
| ○ |
大量生産に対応する |
| ○ |
大量の受注があれば設備の増設を検討する |
5.特長的な技術・得意とする技術
| 得意な技術 |
硫化カルボニル(COS)発生及び利用する反応
ハロゲン化
塩素化 (光,熱,触媒使用核塩素化) フッ素化(ＫＦ置換反応他) 臭素化
還元反応(NaBH4，鉄粉) シアノ化(NaCN) アルキル化 カルボニル化 エステル化
カップリング反応(貴金属触媒使用,金属ソｰダ使用,その他) エーテル化
フリーデルクラフツ反応 ブチルリチウムを使用する反応 ニトロ化
スルフォン化 アミノ化 グリニヤール反応 酸化反応 フィルスマイヤー反応
クロルスルフォン化,ジアミン合成,ポリアニリン合成など |
6.所有設備
6,000Lから20,000L GL,SUS,その他各種反応装置
温度設定範囲 -10℃より250℃
蒸留設備 (常圧より2mmHg減圧)
精密蒸留設備(常圧より2mmHg減圧)
晶析,濾過,乾燥設備 各生産ライン |
【 工場設備概要 】 |
| プラント |
設備 |
容量・数量 |
備考 |
| A |
反応缶
蒸留塔
|
GL
GL
GL
SUS
SUS
SU
SUS |
7,000L×1
13,000L×4
30,000L×1
9,000L×1
10,000L×1
400A×2497H
600A×5358H |
使用温度
R.T～140℃
真空度～10tor
理論段数7.5
理論段数20 |
|
B
|
反応缶
蒸留塔
|
GL
GL
GL
GL
SUS
SUS
TI
SUS |
4,000L×１
6,000L×１
8,100L×１
11,500L×１
6,600L×１
13,400L×１
800φ×11498H
600φ×1906H |
使用温度
R.T～250℃(SUS)
R.T～180℃(GL)
真空度～5torr
理論段数15
理論段数4 |
|
| C |
反応缶
ナウター型乾燥機
蒸留塔
遠心分離機
|
GL
GL
GL
GL
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
SUS
テフロンライニング |
2,000L×1
6,000L×3
8,000L×2
10,000L×１
13,000L×3
20,000L×1
30,000L×1
6,000L×1
13,000L×1
3,000L×1
4,000L×3
400A×4500H
600φ×4900H
48inch×3
48inch×1 |
使用温度
R.T～140℃
真空度～15torr
理論段数20
理論段数20 |
|
| D |
反応缶
コニカル型乾燥機
蒸留塔
遠心分離機 |
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
テフロンコーティング
SS
SS
MA
MA
HC
GL
カーボン
SUS
SUS
SUS |
3,000L×1
9,000L×1
13,000L×1
3,000L×2
4,000L×1
6,000L×6
3,000L×1
4,000L×1
6,000L×1
2,500L×1
10,000L×2
13,000L×1
3,000L×1
510φ×6647H
400A×2040H×3
400A×2720H×2
46inch×1 |
使用温度
R.T,～250℃(SUS)
R.T.～180℃
(GL)
真空度～10torr
理論段数12
理論段数10
理論段数15 |
|
| E（GMP対応） |
反応缶
ナウター型乾燥機
蒸留塔
遠心分離機
|
GL
GL
GL
GL
GL
SUS
SUS
SUS
SUS
CB
GL
GL
SUS
SUS
テフロンライニング |
1,000L×1
6,000L×5
8,000L×1
13,000L×1
20,000L×1
4,000L×1
6,000L×1
1,900L×1
3,000L×1
510φ×6125H
250A×4700H
400φ×4200H
400φ×3350H
50inch×1
48inch×1 |
使用温度
0℃～250℃(SUS)
0℃～180℃
(GL)
真空度～5torr
理論段数10
理論段数9
理論段数13
理論段数8
|
【 少量生産・パイロット設備 】 |
| 試作工場（GMP対応） |
反応缶
晶析缶
蒸留缶
蒸留塔
遠心分離機
ヌッチェ
コニカル型乾燥機
ナウター型乾燥機
|
GL
GL
GL
GL
GL
GL
MA
SUS
GL
GL
GL
SUS
SUS
テフロンライニング
SUS
GL
GL
SUS
|
2,000L×2
1,000L×1
500L×2
200L×1
100L×1
50L×1
1,500L×1
300L×1
1,000L×1
500L×1
300φ×4620H
30inch×2
24inch×1
24inch×1
500φ×1
400L×1
70L×1
300L×1
|
使用温度
0℃～220℃
(MA)
0℃～180℃
(GL)
真空度～5torr
理論段数15 |
|
【 試作製造設備 】
50Lから2,000L GL,SUS反応槽
蒸留設備(常圧,減圧)
晶析,濾過,乾燥設備 |
7.環境対策
ISO14000取得
廃液水中燃焼設備,シアン廃水除外処理設備,活性汚泥廃水処理設備,含フッ素有機物処理 |
8.品質管理
ISO900１認証の品質管理システム
C-GMP管理による医薬中間体製造 |
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