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2018年1月23日開催セミナー


フォトレジスト材料の基礎と最新技術動向
~高感度化材料・高解像度化・トラブル対策~  


★高解像度化に向けた材料開発!
★剥離、クラック、硬化不良などトラブルの発生要因と対応法は!?

日 時 2018年1月23日(火)
13:00 受付開始 

講演時間13:20-16:40
名刺交換、交流会(30分程度)16:40~     

会 場 東京都千代田区内神田1-3-1 高砂ビル2F
弊社FORUM会場


【地下鉄】
・東京メトロ 大手町駅下車 C1出口から徒歩5分
・東京メトロ 竹橋駅下車 1番出口から徒歩10分
・都営新宿線 小川町駅下車 B6出口から徒歩10分
【JR】
・神田駅下車 西口から徒歩10分
定 員 30名

聴講料 15,000円/1名
(税込,テキスト代込)



セミナー
コード
V1085

カタログパンフレットはこちら(PDFファイル)



第1部

13:20
  |
14:20
「レジスト材料・リソグラフィの基礎と技術動向」
長岡技術科学大学 大学院 教授(大学ベンチャー企業 アドヒージョン㈱ 代表取締役兼務)
河合晃 先生

<概要>
現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。本講演では、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、実用面での評価・解決のアプローチを説明します。

<目次>
1.リソグラフィプロセスの基礎
 1.1.レジスト材料
 1.2.感度、残膜曲線
 1.3.段差部最適化
 1.4.エッチング性
2.レジスト欠陥
 2.1.剥離(要因、DPAT法)
 2.2.膨れ、クラック
 2.3.ナノバブル
3.ナノ制御
 3.1.高分子集合体
 3.2.表面硬化層
 3.3.LER




第2部

14:30
  |
15:30
「フォトレジスト材料を中心とした感光性ポリマーの基礎と高感度化の手法について」
東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授
有光晃二 先生

<概要>
光酸発生剤および光塩基発生剤を用いた感光性樹脂(レジスト、UV硬化)の基礎について述べる。さらに、様々な分子増幅を駆使した感光性ポリマーの高感度化、硬化不良対策について筆者らの研究を中心に述べる。

<目次>
1.光酸発生剤
 1.1.光酸発生剤の構造と特性
 1.2.UV硬化への応用
 1.3.化学増幅レジストへの応用
2.酸増殖剤
 2.1.酸増殖剤の構造と特性
 2.2.化学増幅レジストの高感度化
 2.3.UV硬化の高効率化・硬化不良対策
3.光塩基発生剤
 3.1.非イオン型光塩基発生剤の特性と応用
 3.2.イオン型光塩基発生剤の特性と応用
4.塩基増殖剤
 4.1.塩基増殖剤の構造と特性
 4.2.光パターニング材料への応用
 4.3.UV硬化の高効率化・硬化不良対策
5.まとめ



第3部

15:40
  |
16:40
「EUVリソグラフィの現状・今後の課題と求められるレジスト材料とその評価」
リソテックジャパン㈱ ナノサイエンス・グループ長
関口淳 先生

<概要>
EUVリソグラフィーは量産向けスキャナーも登場して、いよいよ量産開始が見えてきました。 そこで、EUVリソグラフィの現状・今後の課題ついて解説します。さらに。求められるレジスト材料およびその評価方法について詳述します。EUVリソグラフィーの今が見える1時間の講義です。

<目次>
1.EUVリソグラフィーの概要
 1.1.EUVリソグラフィーの歴史
 1.2.露光装置およびレジスト材料
2.EUVリソグラフィーの課題
 2.1.RLSトレードオフ
 2.2.アウトガス
3.EUVリソグラフィーに求められるレジスト材料
 3.1.分子レジスト
 3.2.メタルレジスト
4.高解像度化へのアプローチ
 4.1.透過率の検討
 4.2.メタル付与PAGの評価
5.まとめ






下記のフォームからお申し込みいただくか,またはカタログPDFのお申込書にご記入の上,FAX等でご連絡ください。
お申し込み後に,聴講券,会場地図,請求書を送付いたします。
一週間程お時間をいただきますが届かない場合はご連絡ください。
また,開催日2 営業日前以降のキャンセルは承りかねます。詳しくはセミナー申込み規約をお読みくだい。
(シーエムシー出版 東京都千代田区神田錦町1-17-1 TEL 03-3293-2061,FAX 03-3293-2069)


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