著者一覧
(現) 東京大学 国際・産業共同研究センター
吉川明静 金属材料研究所 材料物性研究部
山本 寛 (現) 日本大学 理工学部
神藤欣一 東京工業大学 総合理工学研究科
風間典昭 ソニー(株) 中央研究所
片山利一 電子技術総合研究所 磁性材料研究室
岩田誠一 (株)日立製作所 中央研究所
福永俊晴 東北大学 金属材料研究所
(現) 京都大学 原子炉研究所
野副尚一 化学技術研究所 基礎化学部
(現) (独)産業技術総合研究所 ナノテクノロジー研究部門
中尾昌夫 三洋電機(株) 筑波研究所
(現) 東海大学 工学部
吉田貞史 電子技術総合研究所 電子デバイス部
(現) 埼玉大学 工学部
太田公廣 電子技術総合研究所 電子デバイス部
(現)産業技術総合研究所 産学官連携推進部門
重原淳孝 理化学研究所 高分子化学研究室
(現)東京農工大学 工学部
松本睦良 化学技術研究所 合成化学部
(現)(独)産業技術総合研究所 ナノテクノロジー研究部門
中村貴義 化学技術研究所 合成化学部
(現)北海道大学 電子科学研究所
川端康治郎 化学技術研究所 合成化学部
(執筆者の所属は,注記以外は1986年当時のものです)
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第2章 層状物質・・・・自然界にある積層構造
1.層状物質の分類
1.1 黒鉛
1.2 遷移金属二カルコゲン化物
1.3 金属・リン三カルコゲン化物
1.4 遷移金属酸化物
1.5 遷移金属オキシハライド
1.6 ケイ酸塩粘土鉱物
1.7 4価金属・酸塩
2.インタカレーション効果(ホスト-ゲスト反応効果)
2.1 高導電材料
2.2 新超伝導体
2.3 電極材料
2.3.1 遷移金属二カルコゲン化物
2.3.2 フッ化黒鉛
2.3.3 アモルファス
2.3.4 その他
2.4 エレクトロクロミック材料
2.5 水素吸蔵
2.6 デインタカレーションによる物質合成
2.7 光電極層状半導体
2.8 各種セパレータ(イオン交換体,分子ふるい)
2.8.1 粘土層間化合物
2.8.2 4価金属・酸性塩
2.8.3 その他
2.9 触媒材料
第3章 金属多層膜
1.高圧相の実現(Au/Cr/Au)
2.界面における化合物の形成(A15化合物)
3.強力固体
3.1 はじめに
3.2 金属多層膜の一般的特性
3.3 弾性定数の増大
3.4 弾性異常の理論
3.4.1 弾性異常とその解析
3.4.2 電荷移動効果
3.4.3 超格子構造の効果
3.5 金属多層膜の強度
3.6 ラミネート複合材の強度および硬度
3.7 強力固体設計理論
3.8 金属間化合物の強化機構
3.8.1 Kear-Wilsdorf 不動化機構
3.8.2 規則-不規則変態の効果
3.8.3 β黄銅型強化機構
3.8.4 APDサイズ効果
4.非晶質人工格子
4.1 はじめに
4.2 人工格子膜の作製方法
4.3 人工格子膜の構造
4.4 人工格子膜の磁性
4.5 非晶質人工格子膜の熱安定性
4.6 おわりに
5.多層膜光磁気メモリー材料
5.1 はじめに-光磁気メモリーの特徴-
5.2 光磁気メモリーの原理と主なメモリー材料
5.3 非晶質希土類・遷移金属合金膜の極磁気光学カー(Kerr)効果
5.4 非磁性膜との複合による極磁気光学カー回転角の増大
5.5 磁性複合膜による極磁気光学カー回転角の増大
5.6 組成変調多層膜(人工格子膜)の光磁気メモリーへの応用の可能性
5.7 おわりに
6.超伝導多層膜
6.1 はじめに
6.2 擬二次元ジョセフソン結合超伝導体の臨界磁場
6.3 その他の研究
7.多層構造の配線材料
7.1 はじめに
7.2 ゲート電極・配線
7.2.1 要求される諸性質
7.2.2 多層化の例
7.2.3 将来の動向
7.3 AI配線
7.3.1 要求される諸性質
7.3.2 多層化の例
7.3.3 将来の動向
7.4 おわりに
8.その他の応用
8.1 アモルファス相の固相反応による形成
8.2 イオンビーム混合など改質への応用
8.2.1 イオンビーム混合
8.2.2 イオン注入
8.3 水素吸蔵
第4章 セラミック多層膜
1.セラミック人工周期多層膜
1.1 セラミック多層膜の構造
1.2 磁性材料
1.3 中性子ポラライザー
1.4 触媒材料
2.セラミック多層コーティング
2.1 はじめに
2.2 コーティング法
2.3 セラミックコーティング
2.3.1 単相コーティング
2.3.2 多層コーティング
2.4 おわりに
第5章 半導体超格子-多層膜
1.半導体超格子-多層膜の分類
2.バンド構造の制御
2.1 半導体材料の設計
2.2 結合軌道モデルによる設計
2.2.1 四配位構造半導体
2.2.2 バンド不連続
2.2.3 結合軌道モデル
2.2.4 半導体混晶
3.ヘテロ接合界面の利用
3.1 高電子移動度トランジスタ(HEMT)
3.1.1 高移動度二次元電子ガス
3.1.2 HEMTの動作原理
3.1.3 HEMTの特性
3.1.4 HEMTの改良
3.2 ホットエレクトロン素子(HET)
3.3 量子井戸レーザー(SQW,MQW)
4.超周期効果・・・・・周期一定で積層
4.1 ブロッホ振動効果
4.2 共鳴トンネル効果
4.3 選択反射膜
4.3.1 光導反射膜
4.3.2 X線光学素子
4.3.3 フォノンフィルター
4.4 単原子層効果
4.5 室温励起子と光双安定デバイス
4.6 ヘテロバイポートランジスタ(HBT)
4.7 アバランシェフォトダイオード(APD)
5.不均一積層効果
5.1 準周期超格子
5.2 チャープ超格子
5.3 横積み超格子
5.4 量子細線
5.5 歪み超格子
第6章 有機多層膜
1.はじめに
2.電子機能材料
2.1 異種接合素子
2.2 ジョセフソントンネル結合ダイオード
2.3 多次元性利用素子
3.光機能性材料
3.1 エレクトロスミネッセンス
3.2 エレクトロクロミズム
3.3 フォトクロミズム
3.4 光メモリ-
3.5 光電交換
3.5.1 有機光導電体(OPC)
3.5.2 有機太陽電池
3.6 光集積回路
3.6.1 非線形光学
3.6.2 光導波路
3.7 その他
4.化学機能材料
4.1 はじめに
4.2 マイクロリソグラフィー用レジスト
4.3 センサー
5.その他の応用
5.1 バイオ素子
5.2 平面放射線源
5.3 回析格子
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