第1章 総論　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
1 はじめに
2 機能性ガラスの始まりと発展
3 機能性ガラスの種類と応用
　3.1 光機能性ガラス
　3.2 電磁気機能ガラス
　3.3 熱および機械機能ガラス
　3.4 化学機能ガラス
　3.5 生体機能ガラス
4 機能性ガラス作製のための新しい方法
　4.1 気相法
　4.2 ゾルーゲル法
　4.3 超急冷法
　4.4 機能性ガラスをつくるための加工法
5 おわりに

第2章 光学的機能ガラスの応用
1 光集積回路とニューガラス　　　　　　　　　　
　1.1 はじめに
　1.2 各種ガラス導波路
　　1.2.1 　イオン交換導波路
　　1.2.2 　スパッタガラス薄膜導波路
　　1.2.3 　CVDガラス薄膜導波路
　　1.2.4 　その他のガラス導波路
　1.3 導波型光素子
　　1.3.1 　受動素子
　　1.3.2 　光制御素子
　　1.3.3 　非線形光学素子
　　1.3.4 　レーザ素子
　1.4 光集積回路の例
　　1.4.1 　多重光通信用波長分波器
　　1.4.2 　高周波信号処理デバイス
　　1.4.3 　光ディスクピックアップ
　1.5 おわりに
2 光ファイバー　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　2.1 はじめに　
　2.2 光ファイバーの構造と材料
　2.3 光ファイバーの開発と応用
　2.4 おわりに
3 フォトクロミックガラス　　　　
　3.1 はじめに
　3.2 AgX結晶を含むフォトクロミックガラス
　　3.2.1 　母体ガラスの組成および作製方法
　　3.2.2 　フォトクロミズムの機構、特徴、着色中心
　　3.2.3 　フォトクロミック特性に影響を与える因子
　　3.2.4 　熱暗化フォトクロミックガラス
　　3.2.5 　特殊な作製方法
　3.3 応用例
　3.4 おわりに
4 分布屈折率レンズ(セルフォックレンズ)　　　　
　4.1 はじめに
　4.2 分布屈折率レンズの光学
　4.3 分布屈折率の実現
　4.4 分布屈折率レンズの応用
　　4.4.1 　光源結合系
　　4.4.2 　平行ビーム変換系
　　4.4.3 　リレーレンズ系
　　4.4.4 　異軸結合系
　　4.4.5 　アレイレンズ
　4.5 平板マイクロレンズ
　4.6 おわりに
5 レーザーガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　5.1 はじめに
　5.2 ファイバーレーザー
　5.3 半導体レーザー励起ガラスレーザー
　5.4 アップコンバージョンガラス
　5.5 ホールバーニング
6 光ディスク用ガラス基板　　　　　　　　　　　　　　
　6.1 光ディスクの分類
　6.2 光ディスク用基板材料
　6.3 光ディスク用ガラス基板の製造
　　6.3.1 　ガラスの種類
　　6.3.2 　製造方法
　6.4 光ディスク用ガラス基板の特性
　　6.4.1 　強度特性
　　6.4.2 　光ディスク基板の機械特性
　　6.4.3 　その他の諸特性
　6.5 グルーブ付きガラス基板の開発
7 ICフォトマスク　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　7.1 フォトマスクの種類
　7.2 フォトマスク用ガラス
　7.3 フォトマスク用ガラスに対する必要特性と今後の開発動向
　　7.3.1 　金属クロム膜との付着性
　　7.3.2 　寸法安定性
　　7.3.3 　低熱膨張性
　　7.3.4 　紫外線透過性

第3章 電気・電子的機能ガラスの応用
1 電気用ガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　1.1 はじめに
　1.2 薄板ガラス
　　1.2.1 　液晶ディスプレイ用
　　1.2.2 　カラー液晶・イメージセンサ用
　　1.2.3 　イメージセンサ・カバーガラス
　　1.2.4 　ICメモリー(EPROM)用窓ガラス
　1.3 ファイバガラス
　1.4 マイクロガラス
　　1.4.1 　マイクロボール
　　1.4.2 　マイクロキャピラリ
　1.5 粉末ガラス
2 ホーロー回路基板　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　2.1 はじめに
　2.2 ホーロー回路基板とは
　2.3 ホーロー回路基板用ガラス
　2.4 ホーロー回路基板の製造方法
　2.5 ホーロー回路基板の特徴
　2.6 ホーロー回路基板の仕様と特性
　2.7 ホーロー回路基板の応用
　2.8 今後の展開
3 a-Si系太陽電池　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　3.1 はじめに
　3.2 a-Si系太陽電池の特徴
　3.3 a-Si系太陽電池の高効率化の方法
　3.4 a-Si系太陽電池の基本的構造
　　3.4.1 　ガラス基板
　　3.4.2 　透明電極
　　3.4.3 　a-Si系半導体層
　　3.4.4 　背面電極
　3.5 a-Si系太陽電池の特性
　3.6 おわりに

4 エレクトロクロミックガラス　　　　　　　　　　　　　　　
　4.1 エレクトロクロミズム
　4.2 エレクトロクロミズム測定用セル
　4.3 エレクトロクロミズム特性
　4.4 測定用セルを構成する各種膜
　　4.4.1 　エレクトロクロミズムを示す膜の作製
　　4.4.2 　透明導電性ITO膜の作製
　4.5 今後の問題点と可能性
5 固体電解質材料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　5.1 はじめに
　5.2 高イオン導電性ガラス
　5.3 イオン導電性ガラスの導電機構
　5.4 おわりに
6 トランス磁心材料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　6.1 はじめに
　6.2 電力用トランス磁心材料
　　6.2.1 　アモルファス磁性合金の組成と応用
　　6.2.2 　トランス磁心材料への期待
　　6.2.3 　トランス用アモルファス合金の特性
　　6.2.4 　アモルファス磁心トランスの特性
　　6.2.5 　アモルファス磁心の信頼性
　　6.2.6 　アモルファス磁心トランスの実用化
　　6.2.7 　ケイ素鋼の性能向上
　6.3 スイッチングレギュレータ用磁心材料
　6.4 おわりに
7 電子機器用アモルファス合金　　　　　　　　　　　　
　7.1 はじめに
　7.2 電子機器への応用
　　7.2.1 　応用の現状
　　7.2.2 　技術課題
　　7.2.3 　普及している応用例
　　7.2.4 　パルスパワーへの応用
　7.3 新たな展開
　7.4 おわりに
8 遅延線材料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　8.1 はじめに
　8.2 原理
　8.3 ガラス特性
　　8.3.1 　減衰
　　8.3.2 　遅延時間の温度係数
　　8.3.3 　音速
　　8.3.4 　遅延時間の経時変化
　　8.3.5 　均質性
9 透明導電性薄膜の作成と電子デバイスへの応用　　　　　
　9.1 はじめに
　9.2 作成方法
　　9.2.1 　スプレー法　
　　9.2.2 　化学蒸着(Chemical Vapor Deposition,CVD)
　　9.2.3 　真空蒸着法
　　9.2.4 　スパッタリング
　9.3 電気的性質および光学的性質
　　9.3.1 　電気的性質
　　9.3.2 　光学的性質
　9.4 透明導電性薄膜の応用
　　9.4.1 　ヒートミラー
　　9.4.2 　シリコンに対する反射防止膜
　　9.4.3 　太陽電池
　9.5 おわりに

第4章 熱的・機械的機能ガラスの応用
1 繊維強化ガラス・ガラスセラミックス　　　　　　　　　　
　1.1 はじめに
　1.2 製法
　　1.2.1 　プロセス
　1.3 特性
　　1.3.1 　材料
　　1.3.2 　製造条件と特性
　　1.3.3 　ウイスカー補強複合体
　　1.3.4 　結晶化ガラスをマトリックスとする場合
　　1.3.5 　ウイスカー補強結晶化ガラス複合体
2 強化ガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　2.1 はじめに
　2.2 強化ガラスのメカニズムと製法
　2.3 物理強化ガラス(風冷強化ガラス)
　2.4 風冷強化ガラスの用途
　　2.4.1 　自動車用安全ガラス
　　2.4.2 　車両用窓ガラス
　　2.4.3 　船用窓ガラス
　　2.4.4 　建築用強化ガラス
　　2.4.5 　その他の用途
　2.5 化学強化ガラス
　　2.5.1 　高温型イオン交換法
　　2.5.2 　低温型イオン交換法
　2.6 イオン交換強化ガラスの特徴
　2.7 化学強化ガラスの用途
　　2.7.1 　ディスク用基板
　　2.7.2 　腕時計および計器メーター用カバーガラス
　　2.7.3 　複写機の原稿保持板
　　2.7.4 　その他の利用法
　2.8 積層強化ガラス
3 マシナブル結晶化ガラス　　　　　　　　　　　　　　　
　3.1 はじめに
　3.2 マシナブルセラミックス
　3.3 新しいCao,-Y2O3-Al2O3-Sio2系マシナブル結晶化ガラス
　3.4 シラス、イットリアコンセントレート、CaO,ZnO含有マシナブル結晶化ガラス

第5章 化学的・生体機能ガラスの応用
1 廃棄物処理用ガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　
　1.1 ニューガラスと廃棄処理用ガラス
　1.2 高レベル放射性廃液発生とガラス固化
　1.3 メタリックメルター
　1.4 セラミックメルター
　1.5 固化技術開発上の問題点
　1.6 ガラス固化体の処分
　1.7 ガラス固化体の安全評価
　　1.7.1 　熱的安定性
　　1.7.2 　浸出性
　　1.7.3 　ナチュラルアナログ研究
　1.8 廃棄物処理用ガラスに関するその他の話題
　1.9 ニューガラスとしての廃棄物処理ガラス
　1.10 おわりに
2 多孔質ガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　2.1 はじめに
　2.2 母材ガラス組成と多孔質ガラスの特徴
　2.3 細孔構造の制御
　2.4 性能改善
　　2.4.1 　形状、細孔径分布の改善
　　2.4.2 　細孔表面の改質
　　2.4.3 　化学耐久性の改善
　2.5 各種の用途
　　2.5.1 　ガス分離膜
　　2.5.2 　液体分離膜
　　2.5.3 　反応分離膜
　　2.5.4 　クロマトグラフィ用充填剤、酵素および触媒担体
　　2.5.5 　イオン選択性電極
　2.6 複層化
　　2.6.1 　分相法
　　2.6.2 　ゾル・ゲル法
　2.7 表面細孔の孔径縮小
　2.8 金属・多孔質ガラス複合膜
　2.9 おわりに
3 ガラスと生体材料　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　3.1 はじめに
　3.2 骨修復用材料
　3.3 歯修復用材料
　3.4 自己修復能支援材料
　3.5 おわりに

第6章 用途展開中のガラス
1 ゾル・ゲル法で作られるガラス　　　　　　　　　　
　1.1 ゾル・ゲル法の概要
　1.2 ゾル・ゲル法で作られるバルクガラス
　1.3 コーティング膜
　1.4 ガラス繊維
　1.5 多孔質ガラス、ガラスをベースとする複合体
2 カルコゲナイドガラス　　　　　　　　　　　　　　　　
　2.1 はじめに
　2.2 価電子制御とp-n接合の形成
　　2.2.1 　価電子制御
　　2.2.2 　p-n接合の形成
　2.3 光ディスクメモリー
　　2.3.1 　追記型
　　2.3.2 　書換え型
　2.4 赤外光ファイバー
3 光機能性ガラス　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　3.1 全体の概要
　3.2 光ファイバー
　　3.2.1 　石英ガラス系光ファイバー
　　3.2.2 　多成分系ガラスファイバー
　　3.2.3 　赤外透過ファイバー
　　3.2.4 　紫外透過ガラスおよびファイバー
　3.3 レーザーガラス
　3.4 屈折率分布レンズ
　3.5 光メモリ用ガラス