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高純度シリカの製造と応用

Product and application of high-purity silica

商品コード:
B0540
監修:
加賀美敏郎・林瑛
発行日:
1999年9月
体裁:
B5判、313ページ
ISBNコード:
978-4-88231-042-6
価格(税込):
3,960
ポイント: 36 Pt
関連カテゴリ:
新材料・新素材
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著者一覧

(所属は『高純度シリカの応用技術』発行時(1991年3月)のものです。)

 川副 博司  東京工業大学 工業材料研究所
 加賀美敏郎  (株)日本製鋼所 技術顧問
 林   瑛  日本石英硝子(株) 顧問
 永井 邦彦  東洋通信機(株) 水晶事業部 商品開発部
 石井  正  日本電波工業(株) 営業企画室
 田中 映治  松下日東電器(株) 技術部
 崎久保邦彦  東芝セラミックス(株) 化学事業部 技術部
 森本 幸裕  ウシオ電機(株) ランプ技術研究所
 京藤 倫久  住友電気工業(株) 研究部門 特性評価センター
 滝田 政俊  信越化学工業(株) 合成技術研究所 第3部
 中村 哲之  住金石英(株) 和歌山事業所 合成工場
 林  茂利  住友金属工業(株) 未来技術研究所
 高須新一郎  東芝セラミックス(株) 中央研究所
 布施  昇  東京エレクトロン(株) 専務取締役
 小松 通郎  触媒化成工業(株) ファイン研究所
 西田 広泰  触媒化成工業(株) ファイン研究所
 阿部  潔  水澤化学工業(株) 研究開発本部 研究開発第1部
 落合  満  日本アエロジル(株) 開発部
 城野 博州  日本アエロジル(株) 開発部
 岡田 延弘  (前)日本シリカ工業(株) 理事
 永田  勉  東芝ケミカル(株) 成形材料部
 沢井 和弘  東芝ケミカル(株) 成形材料部
 野崎 敏雄  東燃化学(株) 硅素化学品部
 神谷 寛一  三重大学 工学部 分子素材工学科

目次 +   クリックで目次を表示

【総 論 編】

第1章 シリカの形態と物性・機能                  
 1.はじめに
 2.シリカの諸形態
 3.シリカの構造・状態と物性・機能
  3.1 近距離構造・中距離構造と性質
  3.2 電子構造と物性・機能
  3.3 不純物・欠陥と物性・機能
 4.まとめ

第2章 シリカ工業の現状と展望 
 1.原料および製造技術の概要                      
  1.1 はじめに
  1.2 天然のシリカ鉱物
  1.3 製造法と原料
 2.シリカ製品の相互関係                          
 3.シリカ製品の市場概要                          
  3.1 はじめに
  3.2 水晶振動子
  3.3 ICフォトマスク用シリカガラス
  3.4 光ファイバー
  3.5 IC封止材用シリカフィラー
 4.技術開発の現状と展望                         
  4.1 半導体の発展
  4.2 純度への挑戦
  4.3 結晶と電子部品
  4.4 高純度ガラス
  4.5 製品・業界の交流


【応 用 編】

第1章 水晶 
 1.人工水晶の製造法と技術開発動向                  
  1.1 人工水晶の育成
  1.2 人工水晶の欠陥構造
 2.水晶振動子                                
  2.1 はじめに
  2.2 水晶振動子の概略
  2.3 水晶振動子の表面実装への対応
 3.ビデオカメラ用複屈折板 
  3.1 はじめに
  3.2 光学用人工水晶
  3.3 水晶の複屈折板
  3.4 分離幅と光学的ローパス機能
  3.5 ビデオカメラにおける水晶複屈折板の効果
  3.6 水晶複屈折板の実際例
  3.7 色補正機能の付加
  3.8おわりに

第2章 シリカガラス
 1.シリカガラスの製造法と技術開発動向                
  1.1 はじめに
  1.2 製造法の将来動向
  1.3 製造法
  1.4新製造法
  1.5 シリカガラスの品質
  1.6 シリカガラス製造技術の将来の動向
  1.7 シリカガラス競合製品
 2.耐熱製品への応用                           
  2.1 はじめに
  2.2 石英ガラスの熱的性質
  2.3 用途
 3.光学製品への応用
  3.1 光源用チューブ                           
  3.2 光ファイバー                             
  3.3 IC用フォトマスク                           
  3.4 液晶デ ィスプレイ(LCD)用基板                  
 4.半導体製造用途
  4.1 シリコン引き上げ用ルツボ                      
  4.2 拡散炉用炉芯管                           
 5.シリカ繊維とその応用(光ファイバーを除く)              
  5.1 はじめに
  5.2溶融シリカガラス繊維
  5.3 高ケイ酸シリカガラス繊維
  5.4 ゾル・ゲル法シリカガラス繊維
  5.5 ケイ酸ソーダ法シリカガラス繊維
  5.6 溶出(リーチ)焼結法についてのコメント
  5.7 品質
    5.7.1 化学品位
    5.7.2 シリカガラスファイバーの繊維径(μ)
  5.8 シリカガラス繊維の位置づけ
  5.9 利用
  5.10 特に高機能プリント基板について
  5.11 シリカガラスファイバーから積層板までの流れ
 6.液晶ディスプレイ用スペーサー                    
  6.1 はじめに
  6.2 各種スペーサーについて
  6.3 シリカスペーサーの実用例
  6.4 スペーサーの散布
  6.5 複合機能スペーサー

第3章 シリカゾル                          
 1.はじめに
 2.シリカゾル技術の特徴
  2.1 シリカゾルの製造法
  2.2 シリカゾルの性質
 3.シリカゾルの用途
  3.1 精密鋳造
  3.2 無機繊維
  3.3 製紙工業
  3.4塗料
  3.5 金属表面への処理
  3.6 その他の用途
 4.おわりに

第4章 シリカゲルとその応用                   
 1.はじめに
 2.シリカゲルの製法と物性
  2.1製法
  2.2 物理性状
 3.シリカゲルの形状
 4.シリカゲル利用の現状
  4.1 乾燥剤用シリカゲル
  4.2 精製剤
  4.3 触媒および触媒担体
  4.4 薬剤担体
  4.5 吸着熱利用
  4.6 微粉末品、(破砕品、球状品)
 5.シリカゲルの新たな応用
  5.1 最近の特許動向
  5.2 高純度シリカゲル
  5.3 微小球シリカ
  5.4 シリカガラス
  5.5 IC封止樹脂用充填剤
  5.6 クロマトグラフィ用シリカゲル
 6.おわりに

第5章 微粉末シリカ 
 1.フュームドシリカとその応用                     
  1.1 はじめに
  1.2 フュームドシリカの特性
  1.3 工業利用
 2.沈降シリカとその応用                        
  2.1はじめに
  2.2 製法、応用分野
  2.3粉体特性
  2.4 高機能化
  2.5 応用
  2.6 おわりに

第6章 IC封止用シリカフィラー 
 1.封止材料の開発動向とフィラーへの要求            
  1.1 はじめに
  1.2 封止材料の開発動向
  1.3 今後の課題
 2.シリカフィラーの製造法と特性                   
  2.1 破砕シリカフィラーの製法と純度
  2.2 球状シリカの製法と成形材料特性への影響
  2.3 シリカフィラーの粒度分布と成形特性
  2.4 今後の開発動向

第7章 多孔質シリカとその応用                  
 1.はじめに
 2.溶融法でつくられる多孔質シリカガラス
 3.ゾル・ゲル法による多孔質シリカの作製
  3.1 ゾル・ゲル法の概略とゲルの細孔構造
  3.2 ゲルの細孔構造制御
  3.3 エアロゲル
  3.4 多孔質シリカ膜
 4.おわりに

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